ZEIT Group
86-28-62156220-810
hua.du@zeit-group.com
Nhận báo giá
描述
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Indonesian
Vietnamese
Persian
Polish
描述
Nhà
Thể loại
Thiết bị phủ quang học
Thiết bị kiểm tra quang học
Photomask chất nền
Hệ thống đo lưỡng chiết
yếu tố quang học
Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử
Máy phún xạ Magnetron
Thiết bị phát hiện khuyết tật bề mặt
Máy hoàn thiện từ tính
Thiết bị kiểm tra độ phẳng
Thiết bị kiểm tra bề mặt
Thiết bị phi tiêu chuẩn
Giải pháp dây chuyền sản xuất tự động
Hệ thống giao thoa kế laze
Bộ chuẩn trực kỹ thuật số
Thấu kính giao thoa kế
Sản phẩm
resources
Tin tức
Về chúng tôi
hồ sơ công ty
Tham quan nhà máy
Kiểm soát chất lượng
Liên hệ chúng tôi
Tìm kêt quả (16)
Nhà
-
Sản phẩm
-
al2o3 ald atomic layer deposition nhà sản xuất trực tuyến
Thiết bị phủ quang lắng đọng lớp nguyên tử TiO2 Al2O3 ALD ISO
Trimethylaluminum AL2O3 TiO2 ZnO ALD Máy lắng đọng lớp nguyên tử
Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử AL2O3 cho ngành mô hình cấu trúc nanô
Hệ thống dò tìm chất bán dẫn MOSFET Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử ISO
Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử xúc tác kim loại oxit trong ngành công nghiệp xúc tác
Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử tinh thể quang tử trong ngành quang học
Công nghiệp đầu từ Công nghiệp lắng đọng lớp nguyên tử Máy ALD OEM
Thiết bị ALD lắng đọng lớp nguyên tử cho ngành bao bì điện tử hữu cơ
Tách màng lọc trường lắng đọng lớp nguyên tử Máy ALD
Hệ thống cơ điện vi mô MEMS Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử Lớp phủ bôi trơn
Máy ALD lắng đọng lớp nguyên tử cảm biến sinh học cho ngành công nghiệp cảm biến
Lớp phủ bảo vệ Hệ thống lắng đọng lớp nguyên tử Lớp phủ con dấu
Máy lắng đọng lớp nguyên tử TiO2 ZnO cho ngành năng lượng
Thiết bị lắng đọng ALD lớp phủ quang học TiO2 Al2O3 ISO
Thiết bị phủ quang ALD Al2O3 Kích thước lớp phủ 200 × 200mm
Thiết bị phủ quang học cao cấp tự phát triển với 1200mm * 500mm (tùy chỉnh)
Toàn bộ 1 Các trang
