Chất nền mặt nạ quang thạch anh để sử dụng cho FPD và chip
Khu vực ứng dụng
Các lĩnh vực của quy trình quang khắc, chẳng hạn như sản xuất chip mạch tích hợp, FPD (Màn hình phẳng),
MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), v.v.
nguyên tắc làm việc
Mặt nạ là một mặt nạ tổng thể đồ họa thường được sử dụng trong quang khắc chế tạo micro-nano.Cấu trúc đồ họa
được hình thành trên một chất nền trong suốt bằng một mặt nạ quang mờ, và sau đó thông tin đồ họa được chuyển đến
chất nền sản phẩm thông qua một quá trình tiếp xúc.
Đặc trưng
Photomask Substrate để sử dụng FPD
| Mô hình / Chất liệu | Kích cỡ | Năng lực xử lý |
| 5280 / thạch anh | 800mm × 520mm | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
| 3035 / thạch anh | 350mm × 300mm | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
| 6 inch / Thạch anh | 152mm × 152mm | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
| 5 inch / Thạch anh | 127mm × 127mm | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
Photomask Substrate cho chip sử dụng
| Mô hình / Chất liệu | Kích cỡ | Năng lực xử lý |
| 5009 / thạch anh | 5 inch × 5 inch × 0,09 inch | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
| 6012 / thạch anh | 6 inch × 6 inch × 0,12 inch | Mài, đánh bóng, mạ crom, dán keo |
| 6025 / thạch anh | 6 inch × 6 inch × 0,25 inch | Mài, Đánh Bóng, Mạ Chrome, Gluing |
Quy trình công nghệ
→ Phát hiện nguyên liệu
→ Mài thô
→ Đánh bóng thô
→ Làm sạch mặt nạ
→ Kiểm tra hiệu suất nguyên liệu
→ Mạ crom
→ Kiểm tra hiệu suất mặt nạ
→ Lớp phủ cản quang
→ Bao bì
→ Vận chuyển
Lợi ích của chúng ta
Chúng tôi là nhà sản xuất.
Quá trình trưởng thành.
Trả lời trong vòng 24 giờ làm việc.
Chứng nhận ISO của chúng tôi
Các bộ phận của bằng sáng chế của chúng tôi
Các phần của giải thưởng và trình độ R&D của chúng tôi
Sản phẩm của chúng tôi được bán trên toàn thế giới. Bạn có thể yên tâm về toàn bộ quá trình sản xuất sản phẩm của chúng tôi.
